DigitalArtSpace

Samsung планирует существенно увеличить количество оборудования для производства микросхем с использованием EUV-литографии, включая закупку новейших систем High NA. Данные меры позволят ускорить выход на серийное производство чипов по 2-нм техпроцессу.

В отделе хранения данных компании будет установлено пять комплектов стандартного EUV-оборудования, что позволит организовать самостоятельную производственную линию. До этого момента фабрики по выпуску пластин и подразделение хранения, расположенное в Пхёнтхэке, использовали единое оборудование.

Samsung также намерена приобрести два комплекта передовой литографической системы High NA EUV. Ввод в эксплуатацию первой установки запланирован на конец 2025 – начало 2026 года. Один из комплектов будет установлен на заводе в Хвасоне, а второй, скорее всего, появится на производственной площадке в Тейлоре.

За один комплект стандартной установки EUV просят 210 миллионов долларов, а оборудование High NA EUV обойдется примерно в 400 миллионов долларов. Общий объем инвестиций компании в новое оборудование составит 1,8 миллиарда долларов.

Технология High NA EUV позволяет добиться на 1,7 раза большей точности топологии схем, почти в три раза увеличить плотность транзисторов и на 40% повысить оптическую точность по сравнению с традиционными EUV-системами.

Похожие статьи

Новый алгоритм Дарвина-Гёделя учит искусственный интеллект самостоятельно программировать.

В США производят эффективные процессоры: тайванские чипы TSMC возвращаются на родину для завершения производства.

В продаже — новая Lada Granta с увеличенным дорожным просветом

Новые модели Kia могут появиться на российском рынке.

Недорогой аналог Toyota Camry с пробегом более 2000 км завоевал популярность

Рамный внедорожник BAW 212 T01 с мощным двигателем: «Китайский УАЗ» с комфортом.