По имеющимся сведениям от Bloomberg, ссылающегося на высокопоставленного представителя немецкой компании Zeiss Group, ключевого поставщика ASML, Китай существенно уступает мировым лидерам в создании оборудования для производства передовых микросхем.

Франк Рохмунд, возглавляющий подразделение полупроводников в компании Zeiss, в интервью телеканалу Bloomberg TV выразил мнение, что потребуется около 15 лет, чтобы Пекин смог разработать оборудование для литографии, использующее экстремальный ультрафиолет (EUV).

Основной сложностью является технология EUV-литографии, которая критически важна для серийного производства современных чипов, применяемых в системах искусственного интеллекта и высокопроизводительных вычислениях. Китайские разработчики уже ведут работы над собственными установками, однако на данный момент приоритетное внимание уделяется более отработанной технологии DUV-литографии.

По информации источника, прототипы китайского оборудования EUV пока значительно проигрывают западным образцам и не способны обеспечить массовое производство чипов с использованием передовых технологических процессов. Тем не менее, Пекин продолжает активно направлять средства на развитие собственной полупроводниковой индустрии.